JIS K0160-2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
作者:标准资料网
时间:2024-05-11 13:48:23
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【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis--Chemicalmethodsforthecollectionofelementsfromthesurfaceofsilicon-waferworkingreferencematerialsandtheirdeterminationbytotal-reflectionX-rayfluorescence(TXRF)spectroscopy
【原文标准名称】:表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
【标准号】:JISK0160-2009
【标准状态】:现行
【国别】:日本
【发布日期】:2009-07-20
【实施或试行日期】:
【发布单位】:日本工业标准调查会(JP-JISC)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:A43
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:30P.;A4
【正文语种】:日语
【原文标准名称】:表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
【标准号】:JISK0160-2009
【标准状态】:现行
【国别】:日本
【发布日期】:2009-07-20
【实施或试行日期】:
【发布单位】:日本工业标准调查会(JP-JISC)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:A43
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:30P.;A4
【正文语种】:日语
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